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                純離子鍍膜設備

                發布時間:2021.11.18

                  安徽純源鍍膜科技有限公司主要從事真空鍍膜設備的設計、研發、制造、銷售、售后服務和鍍膜生產服務,在純離子鍍膜(Pure Ion Coating,簡稱PIC)、化學氣相沉積(CVD)、磁控濺射、多弧離子鍍、離子束刻蝕清洗等真空鍍膜應用領域均擁有國內外尖端技術。


                  公司目前擁有50多項知識產權,其中,多項專利設備純離子鍍膜(Pure Ion Coating,簡稱PIC)能夠制造出性能優越的金屬膜、合金膜、金屬化合物膜和金剛石薄膜;另一項專利產品NDT(New Diamond Technology)能夠制成性能優越穩定的金剛石薄膜。膜層系列有Ta-C、DLC、低溫氮化物膜 (TiN,CrN等)、碳化物膜 (CrC等)和高致密金屬/合金膜等。

                  根據膜層種類和應用行業的不同,純源鍍膜制備的納米/微米級膜層具有鍍膜溫度低、無熱應力、高純度、高致密、超硬、無顆粒、耐磨損、摩擦系數小、防刮花、耐腐蝕、均勻性好、粘附性好、導電性能可調、高熱導、生物相容性、抑菌性和紅外/激光透過率高(適當膜層材料)等特點,膜層可以廣泛應用在3C消費電子、半導體、交通工具、刀具模具、新能源、醫療、軍工航天和科研等行業。


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